干蚀刻和湿蚀刻的区别

干蚀刻采用的蚀刻剂是等离子体，其工作原理是利用等离子体和表面薄膜反应，形成挥发性物质，或者直接轰击薄膜表面使之腐蚀的工艺，它的特点是，可以实现各项异性刻蚀，从而保证细心图形转移后的保真性，干蚀刻的设备造价比较高，应用的领域主要以半导体为主。

（湿蚀刻采用的蚀刻液)

湿蚀刻采用的是酸碱性的腐蚀液为蚀刻剂，通过抗腐蚀层保护不去除的部分。这种利用液态环境对金属进行腐蚀的工艺也称为湿蚀刻，其特点是操作简便、易实现机器设备自动化生产，通常来说大部分的金属都可以蚀刻，湿蚀刻应用领域则主要以金属蚀刻为主。