铜蚀刻介绍及工艺流程

铜蚀刻是利用光化学蚀刻，通过曝光显影后，将需要蚀刻的铜区域保护材质去除，接触化学溶液达到溶解腐蚀的作用，形成镂空或者凹凸成型的效果，铜蚀刻较早的应用是在铜板印刷的凹凸版上面，通过蚀刻工艺及蚀刻设备的发展，许多的铜材质的精密件也选择蚀刻工艺进行加工，例如手机电脑上面的VC散热片、精密垫片以及各类的金属网，精美的铜材质工艺品等等。

（铜蚀刻-引线框架）

铜蚀刻的工序分为：曝光法和网印法（也称为丝印）。

曝光法的工艺流程：工程绘图、裁料、涂布、烘干、菲林检查、曝光、显影、检板、蚀刻、退墨、拆片、检测、包装。

网印法的工艺流程：工程绘图、裁料、清洗板材、丝网印、蚀刻、脱模、包装出货。

常用的蚀刻液有六种类型：氯化铁、过硫酸铵、硫酸/铬酸、酸性氯化铜、碱性氯化铜、硫酸/双氧水蚀刻液。